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Die Bestimmung von Spurenelementen in reaktiven Prozessgasen
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Die Entwicklung von Analysenverfahren zur Untersuchung ausgewählter reaktiver Prozessgase (Chlor, Chlorwasserstoff, Bortrichlorid und Dichlorsilan) ohne Probenvorbereitung im Hinblick auf ihren Einsatz in der Halbleiterfertigung und den damit verknüpften Anforderungen an die Nachweisstärke der Verfahren bildet den Schwerpunkt des vorliegenden Buches. Verschiedene atomspektrometrische Methoden wie die Graphitrohratomabsorptionsspektrometrie (GFAAS), Mikrowelleninduziertes Plasma-Atomemissionsspektrometrie (MIP-AES), Nichtdispersive Atomfluoreszenzspektrometrie (NAFS) und Induktiv gekoppeltes Plasma-Atomemissionsspektrometrie (ICP-AES) wurden für die Ausarbeitung der Verfahren eingesetzt sowie deren Möglichkeiten und Grenzen aufgezeigt. Aufgrund der physikalisch-chemischen Eigenschaften der Gase und ihrer Reaktivität ist die Auswahl der Materialien des Gaseinführungs- und Analysensystems von entscheidender Bedeutung für eine richtige Analyse. Sowohl technische Modifikationen als auch Kalibrierungsmöglichkeiten werden präsentiert.
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